NEW
| 参数 | 出厂下限 | 常用区间 |
|---|---|---|
| 极限真空度Ultimate Vacuum：设备可达到的最低压强（数值越小真空越高），单位 Pa 或 mbar（1 mbar ≈ 100 Pa）。关键 | ≤ 5×10⁻³ Pa | 1×10⁻² ~ 5×10⁻³ Pa（空载） |
| 溅射靶材 | — | Au-PdPtC （可选 Au-Pd/Pt/C） |
| 腔体直径镀膜/溅射腔体的内部直径，单位 mm；决定可处理样品的最大尺寸。关键 | 200 mm | 100 ~ 200 mm（有效内径） |
| 镀膜均匀性沉积薄膜厚度的一致程度，单位 %；数值越小，膜厚越均匀。关键 | ±5% | ±3 ~ ±8%（φ100mm基片中心区） |
| 样品台转速 | 60 rpm | 0 ~ 60 rpm（可调） |
| 型号 | 关键规格 | 特点 / 定位 |
|---|---|---|
| TG-DM100 | 腔体 100mm / Au-Pd | 基础溅射型 |
| TG-DM200本型号 | 腔体 200mm / 多靶位 | 多靶蒸镀型 |
| TG-DMPro | 真空 5e-4Pa / 程序控 | 科研旗舰型 |
台高仪器内置智能控制系统，可对接实验室物联网（IoT）平台，实现运行数据联网采集、异常预警与远程状态监控，降低现场值守与停机风险。
运行参数实时上传，集中可视
阈值越界主动提醒，防患未然
异地查看设备状态与运行日志
